PVD は物理蒸着の略で、高温と真空を使用して材料を別の材料の薄層でコーティングするプロセスです。
スパッタリングターゲットとは何ですか? 知っておくべきことすべて!
物理学において、スパッタリングとは、固体材料自体がプラズマまたはガスの高エネルギー粒子によって衝撃を受けた後、固体材料の微細な粒子がその表面から放出される現象です。
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スパッタリングは、高真空環境でスパッタリング ターゲットから原子を放出し、放出された原子を基板上に凝縮することにより、基板上に材料を堆積するために使用される物理蒸着 (PVD) プロセスです。
スパッタリングターゲットは、薄膜堆積技術の分野において重要な部品です。さまざまな基板上に薄膜を作成するための材料源として機能します。