アルミニウム (Al) スパッタリングターゲット

製品

アルミニウム(Al)スパッタリングターゲット

属性名

金属スパッタリングターゲット
商品名

アルミニウム (Al) スパッタリングターゲット
元素記号

Al
純度

4N,5N,5N5,6N
形

平面、回転、カソード

引用を要求

あるいはカル +86-731-84027969

説明

レビュー

アルミニウムスパッタリングターゲットは、金属アルミニウムと同じ機能を持っています。アルミニウムは、記号Al、原子番号13の化学元素です。銀白色で、柔らかく、非磁性で延性のあるホウ素族の金属です。アルミニウムは、その低密度と不動態化現象による耐腐食性で注目に値します。アルミニウムとその合金は、航空宇宙産業にとって不可欠であり、建物のファサードや窓枠などの輸送および建築産業でも重要です。3N8-4N8 純アルミニウムは、転動電解コンデンサのアルミ箔、照明器具、データストレージに使用されます。5N～6Nの超高純度アルミニウムは半導体デバイスの製造に使用されます。光電子記憶媒体、超電導ケーブル安定化材料、スペースシャトルの科学研究の製造。

以下は、当社のアルミニウムスパッタリングターゲットの 2 枚の顕微鏡写真です。平均粒径は 300μm です。

当社が製造したスパッタリングターゲットは高純度であり、最も重要な利点は、膜が優れたレベルの導電性を備え、PVD プロセス中の粒子の形成が最小限に抑えられていることです。以下のフォームは、当社のアルミニウムスパッタリングターゲットの典型的な分析証明書です。高純度です。最も重要な利点は、膜が優れたレベルの導電性を有し、PVD プロセス中の粒子の形成が最小限に抑えられることです。

以下は、5N アルミニウムスパッタリングターゲットの一般的な分析証明書です。

アルミニウムスパッタリングターゲット作製の流れ

材料準備ゾーン - 製錬 - 化学分析 - 鍛造 - 圧延 - 焼鈍 - 金属組織検査 - 加工 - 寸法検査 - 洗浄 - 最終検査 - 梱包

アルミニウムスパッタリングターゲット及びその製造方法

アルミニウムは、ボーキサイトから Al2O3 を抽出し、溶融氷晶石中で電気分解することによって得られます。純度は通常 99% 以上です。しかし、このような純度のアルミニウムは、アルミニウムターゲットの製造原料として使用することはできません。まず最も重要な要件は高純度です。アルミニウムターゲットに使用される高純度アルミニウムは、偏析、三層電解、または複合帯域精錬によって製造されます。工業用の純アルミニウム99.7に比べて価格は高価ですが、中国で最も高い純度は約99.9999％（6N）です。高純度のアルミニウム地金を原料とし、鍛造、圧延、熱処理によりアルミニウムの結晶粒を作ります。スパッタリング用のアルミニウムターゲットの要件を満たすために、インゴットは小さくなり、密度が増加します。変形後の高純度アルミニウム素材を機械加工により加工します。アルミターゲット加工は高精度と高い表面品位が要求され、真空成膜機で要求されるターゲットサイズに加工することができます。

以下は、5N アルミニウム スパッタリング ターゲットの一般的な分析証明書です。

アルミニウムスパッタリングターゲット作製の流れ

関連スパッタリング材料

以下は、5N アルミニウムスパッタリングターゲットの一般的な分析証明書です。