ジスプロシウム (Dy) スパッタリング ターゲット
  • 属性名
    金属スパッタリング ターゲット
  • 商品名
    ジスプロシウム スパッタリング ターゲット
  • 元素記号
    Dy
  • 純度
    3N
  • 平面
引用を要求
あるいはカル +86-731-84027969
説明
レビュー
ジスプロシウムスパッタリングターゲットは、高純度のジスプロシウム(Dy)金属からなる銀金属ターゲットです。融点は1420です°C、沸点2840°温度は℃、密度は8.55g/cm3。室温で酸素によりゆっくりと酸化されても、空気中では安定であり、主な用途は永久磁石である。

ジスプロシウムスパッタリングターゲットの応用

薄膜の堆積に使用されます。核制御用途向けの合金ステンレス鋼。原子炉の制御棒を冷却するためのサーメットとして使用されるため、中性子を容易に吸収し、長時間の中性子照射下でも収縮したり膨張したりしません。希土類金属(バナジウムを含む)の混合使用もレーザー材料として使用できます。

化学仕様:


以下の形式は、99.9% 純度のジスプロシウム Dy スパッタリング ターゲットの一般的な証明書です。


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