鉄 (Fe) スパッタリングターゲット

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鉄(Fe)スパッタリングターゲット

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説明

レビュー

高純度鉄（鉄）スパッタリングターゲットは、磁気記録媒体、磁気記録書き込みヘッド、光電子デバイス、および磁気センサーを製造するための重要な材料です。

微細構造は当社の柔軟な製造プロセスにより調整でき、ご希望の効果を実現できます。スパッタリングターゲットの粒子が均一に整列していれば、ユーザーは一定の浸食速度と均一な層の恩恵を受けることができます。以下は、平均粒径100μmの鉄スパッタリングターゲットの 2 枚の顕微鏡写真です。

化学仕様:

当社の高純度スパッタリングターゲットは、膜に優れたレベルの導電性を持たせ、PVD プロセス中の粒子の形成を最小限に抑えることができます。以下は、4N 鉄スパッタリングターゲットの一般的な分析証明書です。

FeNiスパッタリングターゲット

FeCoスパッタリングターゲット

FeCoVスパッタリングターゲット

FeCrNiスパッタリングターゲット

Fe2O3スパッタリングターゲット

FeSiスパッタリングターゲット

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