モリブデン（モー）スパッタリングターゲットは、その原料と同じ性質を持っています。モリブデンは、純粋な形では、モース硬度 5.5、標準原子量 95.95 g/mol の銀灰色の金属です。融点は2,623です°C (4,753°F); 天然に存在する元素の中で融点が高いのはタンタル、オスミウム、レニウム、タングステン、炭素だけです。商業的に使用されている金属の中で熱膨張係数が最も低い金属の 1 つです。
モリブデンは、優れた電気伝導性と熱伝導性、小さな熱膨張係数、そして強い耐食性という利点を持っています。主に電気真空装置、高温炉発熱体、断熱板、蒸着ボートなどに使用されます。モリブデンスパッタリングターゲットとしては、TFT-LCD、薄膜太陽電池、半導体分野などに広く使用されています。
当社の特殊な形成プロセスのおかげで、当社のモリブデン スパッタリング ターゲットはより高い密度とより小さな平均粒子サイズを備えているため、より高いスパッタリング速度によるより高速なプロセスの恩恵を受けることができます。
微細構造は当社の柔軟な製造プロセスにより調整でき、ご希望の効果を実現できます。スパッタリングターゲットの粒子が均一に整列していれば、ユーザーは一定の浸食速度と均質な層の恩恵を受けることができます。以下は、平均粒径 Ô～100μm のモリブデン スパッタリング ターゲットの 2 枚の顕微鏡写真です。
.png)
.png)
info@xk-sputteringtarget.com.png)
.png)
.png)
.png)
.png)
