一酸化ケイ素 (SiO) スパッタリングターゲット

製品

属性名

セラミックスパッタリングターゲット
商品名

一酸化ケイ素スパッタリングターゲット
元素記号

SiO
純度

4N
形

平面ターゲット

引用を要求

あるいはカル +86-731-84027969

説明

レビュー

Xinkangは、酸化物スパッタリングターゲット、炭化物スパッタリングターゲット、フッ化物スパッタリングターゲット、硫化物スパッタリングターゲットなどを含む、あらゆる種類のセラミックスパッタリングターゲットおよび複合ターゲットを製造および供給できます。セラミックススパッタリングターゲットの製造技術はホットプレスです。原材料の選択からホットプレス焼結の温度、圧力、時間の制御に至るまで、特定の製造プロセスに厳密に従い、完成したセラミックスパッタリングターゲットは、高純度、高密度、斑点のない均一な表面色、エンドユーザーは、 PVD プロセス中に一定の浸食速度と高純度で均質な薄膜を得ることができます。

一酸化ケイ素スパッタリングターゲット;

純度: 99.99%。

製造方法：ホットプレス焼結、真空溶射。

利用可能な寸法:

円形ターゲット: 直径 = 3 mm;

長方形ターゲット: 長さ = 3 mm。

回転ターゲット：長さ4000×肉厚15mm

最小注文数量: 1 個;

結合の種類: インジウム、エラストマー。