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マイクロエレクトロニクス
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最終製品の薄膜の製造には材料の純度と均一性がすべて必要とされるため、マイクロエレクトロニクス素子の製造では、大きな生産規模、小さな物理的寸法、および小さな性能のばらつきという特徴を維持する必要があります。
 
さらに、精密な成分の組み合わせも、これらの製品の薄膜の電子特性に大きな影響を与えます。この懸念に基づいて、XK は高純度ターゲットの開発とは別に、合金元素の添加配置や含有組織の均一性も目指しており、マイクロエレクトロニクスで使用されるスパッタリング ターゲットをサポートする多くのノウハウ技術を研究しています。
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